低粗糙度CVD金刚石薄膜研究

摘要

由于金刚石具有很高的声速，与压电材料结合后成为非常有前景的高频声表面波器件。本文采用热丝化学气相沉积法在硅片上沉积出表面光滑、粗糙度很低的纳米级金刚石膜作为声表面波器件的基片，金刚石膜厚度在10μm左右。对样品进行扫描电镜、拉曼光谱、粗糙度以及电阻率等测试，并与微米级金刚石进行对比分析和抛光时间的比较，认为，这种纳米级金刚石膜表面粗糙度低，非常易于抛光。晶粒细小，又大大降低了传播损耗，是制备声表面波基片的理想材料。