等离子体对平板边界层控制的实验研究

摘要

采用粒子图像测速(Particle Image Velocimetry, PIV)技术,研究了电晕放电等离子体激励对平板边界层的控制特性;在低速风洞中开展了测力实验,对施加介质阻挡放电等离子体控制前后平板的受力特性进行了研究,研究了激励电压,激励频率、来流风速等参数对平板边界层控制的规律。研究结果表明,等离子体可以有效地对平板边界层进行控制,抑制气流分离,减小阻力,显著改善绕流流场特性;施加控制后,在来流20m/s时,最大升力增加6.3%,最小阻力减小7.2%;来流30m/s时,最大升力增加5%,最小阻力减小3%。