吡柔比星在羧基离子注入氧化铟锡电极上的电化学行为

摘要

将羧基离子注入到氧化铟锡（ITO）表面，注入剂量为5×1015 ions·cm.2， 制备羧基离子注入氧化铟锡电极（COOH/ITO）。图1A是ITO玻璃表面的XPS谱图， 图中的C1S谱线在284.80 eV处峰，对应C-H和C-C键的存在。而在COOH+注入之 后，C1S谱线发生明显的升高(图1B)，谱线可以解析成：284.80 eV处C1峰，对应 C-H和C-C键；286.30 eV处C2峰，对应C-OH键；287.00 eV处C3峰，对应C=O键； 289.38 eV处C4峰，对应COOH。XPS也显示羧基碳的百分比由注入前的1.42 %上 升到注入后的3.09 %。这说明COOH+成功注入到了ITO上并保留了羧基的特性。