喷雾热分解法制备ITO薄膜及其光电性能研究

摘要

采用自制的喷雾热分解制备薄膜装置在普通玻璃衬底上沉积了Ito薄膜，对实验条件进行了正交设计，以考察制备IT0薄膜的优良条件。结果表明，采用自制喷雾热分解装置成功的制备出ITO薄膜，该装置结构简单，操作方便。影响ITO薄膜光电性能的主要因素是基板温度；制备ITO薄膜的优化条件为：基板温度300℃、载气气流速度1L．Min-1、退火温度540℃、溶液配比为铟锡比10：1，喷嘴与基板距离8cm、薄膜沉积时间3．5min相应的透光率为97％。