功率集成电路
功率集成电路的相关文献在1989年到2023年内共计265篇,主要集中在无线电电子学、电信技术、电工技术、工业经济
等领域,其中期刊论文142篇、会议论文12篇、专利文献708911篇;相关期刊68种,包括电力电子技术、电力电子、集成电路应用等;
相关会议12种,包括四川省电子学会半导体与集成技术专委会2012年度学术年会、第十六届全国青年通信学术会议、2011’全国半导体器件产业发展、创新产品和新技术研讨会等;功率集成电路的相关文献由399位作者贡献,包括孙伟锋、易扬波、方健等。
功率集成电路—发文量
专利文献>
论文:708911篇
占比:99.98%
总计:709065篇
功率集成电路
-研究学者
- 孙伟锋
- 易扬波
- 方健
- 李肇基
- 蔡小五
- S·班纳吉
- 冯小龙
- 夏晓娟
- 徐申
- 时龙兴
- 曹光伟
- 李杰
- 李海松
- 段华平
- 郑康定
- 马叶军
- V·帕塔萨拉蒂
- 向华
- 张波
- 曹广军
- 李照华
- 林道明
- 丘文雄
- 刘三清
- 刘国平
- 刘海南
- 吴津丞
- 周祥兵
- 夏瑞瑞
- 张斌
- 张旭
- 戴文芳
- 曾曙
- 朱文杰
- 杜寰
- 林国栋
- 林桂贤
- 林雪辰
- 王常亮
- 罗家俊
- 薛建顺
- 袁华
- 袁浩
- 赵新平
- 赵春波
- 赵海涛
- 陈文录
- 陈治明
- 陈艳霞
- 韩雁
-
-
初飞;
陈洪转;
彭领;
王瑛;
宁静怡
-
-
摘要:
针对宇航级功率集成电路中横向扩散金属氧化物半导体(LDMOS)器件抗单粒子辐射性能低的问题,开展了高压LDMOS抗单粒子效应加固技术的研究,采用重掺杂P+well及漏区缓冲层结构设计了一种耐压为60 V的N型LDMOS器件。利用TCAD软件对重掺杂P+well及漏区缓冲层结构的加固机理进行仿真分析,并对回片器件利用Ta离子(线性能量转移,LET=79.2 MeV·cm^(2)/mg)进行辐照试验验证,结果表明,提高Pwell掺杂浓度和采用缓冲层结构可将高压LDMOS器件抗单粒子烧毁电压提升至60 V。
-
-
-
-
-
-
摘要:
美国纽约州立大学理工学院(SUNY Poly)在4H-碳化硅(SiC)横向金属氧化物半导体场效应晶体管(MOSFET)的性能创下了新的纪录。0.3μm沟道、2.5μm栅漏间距实现了7.7mΩ-cm2导通电阻和450V击穿电压。研究成果发表在IEEE Transactions OnElectron Devices。需求背景在功率集成电路应用中,由于SiC具有3MV/cm击穿临界电场,比硅大一个数量级,SiC器件正在寻求取代成熟的硅技术。SiC基器件面临的一个挑战是如何同时实现低导通电阻与高击穿电压。
-
-
智玉欣;
蔡小五;
赵海涛;
夏瑞瑞;
刘海南;
罗家俊
-
-
摘要:
采用BCD工艺设计了一中宽电源电压输入、多通道张弛振荡器电路,文中提出的一种片上电源变换电路以及一种基于张弛振荡器的时钟产生电路,克服了宽电源范围供电情况下对低压振荡器的要求,在降低电压变换电路复杂性的同时降低了频率对电压的敏感性,可应用于单电源高压供电芯片.在电源电压VDDH为典型值24V情况下,逻辑低电平VDDL温度系数为290ppm/°C;电源电压从0跳变到24V时,VDDL稳定5V仅需0.16μs;27°C情况下,电源电压VDDH从7V到40V变换情况下,VDDL电平变化1.72%.27°C情况下,在7V供电电压时,最大时钟偏移0.20%;在24V供电电压时,最大时钟偏移0.21%.电路采用0.25μm工艺实现,在电源电压24 V,工作频率25MHz时,电流消耗仅为150μA.
-
-
严鼎;
孙伟锋;
祝靖;
李冬冬
-
-
摘要:
氮化镓GaN(gallium nitride)功率器件因其出色的导通与开关特性,能够实现系统高频化与小型化,有效提升系统功率密度.但是,增强型GaN功率器件由于其栅极可靠性问题,使其在电源管理系统中无法直接替换传统硅基功率MOSFET器件.为此,提出一种预驱动芯片,通过片内集成LDO与电平移位结构,实现兼容12~15 V输入,并输出5 V信号对GaN功率器件的栅极进行有效与可靠控制,达到兼容传统硅基功率器件应用系统的要求.此外,通过多芯片合封技术,将预驱动芯片与GaN功率器件实现封装集成,降低了寄生电感,使其应用可靠性进一步提升.
-
-
-
罗萍
-
-
摘要:
前沿课程是学生了解专业领域科学前沿、发展趋势和自己未来工作性质的重要课程.本文提出加强本科前沿课程中的互动环节,将课堂授课、研讨、讲座等结合起来的教学模式,探讨通过学生课前查阅资料、课堂积极研讨、聆听专业讲座等措施,让学生主动了解功率集成电路的发展历史、研究现状和前沿技术的教学思路.
-
-
-
Ben LEE
-
-
摘要:
功率集成电路器件的产地正发生着重大改变。过去10年来,中国、欧洲和东南亚地区的功率器件制造业取得迅猛发展,而北美地区则逐渐走下坡路。在市场机遇方面,随着电池供电与互联消费产品及电动车的涌现,功率器件需求预计将更加强劲。如下方图片所示,中国的智能手机需求增长与功率集成电路消费趋势相符。未来,
-
-
WANG Xiaobo;
王小波
- 《四川省电子学会半导体与集成技术专委会2012年度学术年会》
| 2012年
-
摘要:
本文简要回顾了功率集成电路制造中常用三种降低互连线引入到体硅表面大电场的互连方式:使用结隔离(Junction Isolation)的互连方式,使用自隔离(Self-Isolation)的互连方式,使用介质隔离(Dielectric Isolation)的互连方式.简要介绍了它们的基本原理和结构和为了克服基本结构中存在的问题的改进结构.结隔离(JI)/互连中,介绍了四种降低互联线引入电场的方法:电阻场板技术(Resistive Field Plate),多浮空场板技术(Multiple Floating Field Plate),引入Si02分压,结终端扩展技术(Junction Termination Extension).以及它们结构参数变化对击穿电压的影响.自隔离/互连中,介绍了基本自隔离结构,为了克服漏电流而引入的分区自隔离/互连,最后介绍了一种新型的结构.最后介绍了介质隔离/互连.
-
-
-
李明;
方健;
乔明
- 《四川省电子学会半导体与集成技术专委会2006年度学术年会》
| 2006年
-
摘要:
本文提出了SOI多区双RESURF LDMOS,在单RESURF LDMOS结构的n漂移区引入多个p掺杂区,以改善其场分布,提高击穿电压.借助二维器件仿真软件对器件进行仿真和优化设计,使其耐压达650V以上.开发高压SOI(Silicon-on-Insulator)BCD工艺,在此基础上研制出的LDMOS耐压达到640v.应用在高压功率集成电路中,与普通硅基PN结隔离LDMOS比较,电流驱动能力提高约23%。
-
-
-
-
-
-
薛卫东;
马超;
方健
- 《2006中国电工技术学会电力电子学会第十届学术年会》
| 2006年
-
摘要:
由于功率集成电路功率耗散大,发热量大,过热保护电路对于功率集成电路是非常重要的.本文设计了一种用于集成电路内部的低压带热滞回功能的过热保护电路,电路不使用齐纳二极管和迟滞比较器,通过简单的反馈,防止了热振荡现象的发生,其最小工作电压1.5V,热滞回温度20°C.
-
-