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プラズマを援用したダイヤモンド基板の高精度加工(第1報): 誘導結合プラズマを用いた単結晶ダイヤモンドの加工特性

机译:具有等离子体的钻石板的精密加工(第1报告):使用电感耦合等离子体处理单晶金刚石的处理特性

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摘要

ダイヤモンドは高い電子移動度や熱伝導性を持つことから次世代パワーデバイスとして注目されている.デバイスとしてダイヤモンドを用いるにはウェハ化が必要不可欠であり,ウェハ化にはプラズマCVD法による側面成長やモザイク法が用いられるが,得られたウェハ表面には数10μmのうねりがあるため平坦,平滑化が必要不可欠である.そこで我々は従来の切削,研削加工に代わってNC-PCVMを用いた平坦化,化学機械研磨に代わってプラズマ援用研磨を用いた平滑化を適用することでダメージフリーな高精度加工を行うプラズマナノ製造プロセスを開発している.現在我々はPCVMを用いて単結晶ダイヤモンドを全面加工することを意図している.先行研究としてマイクロ波プラズマを用いた場合1インチ基板の全面加工に約20日の加工日数がかかるという結果が得られているが,産業化するにはエッチングレートの向上が必要である.そこで我々は従来のマイクロ波プラズマに代わって,よりプラズマ温度の高い誘導結合プラズマに注目した.本報では,誘導結合プラズマ発生装置の立ち上げを行い,自作した実験系で実験を行って得られた単結晶ダイヤモンドの加工特性について報告する.
机译:钻石作为下一代功率装置引起关注,因为它具有高电子迁移率和导热性。玻璃化对于使用金刚石作为装置是必不可少的,并且通过等离子体CVD方法使用侧表面生长和马赛克方法用于晶片化,但它是平坦的,平滑,因为获得了所得晶片的波浪表面。必须完成。因此,可以通过代表使用等离子体辅助抛光使用NC-PCVM使用NC-PCVM使用NC-PCVM的平滑来进行无损的高精度处理,代表化学机械抛光我们正在开发制造过程。目前我们旨在使用PCVM整体处理单晶钻石。在使用微波等离子体作为主要研究的情况下,为1英寸基板的全表面处理获得约20天的工作天的结果,但是必须将蚀刻速率提高到工业化。因此,我们专注于更高的等离子体温度 - 高感应结合等离子体而不是传统的微波等离子体。在本报告中,已经启动了电感耦合等离子体产生装置,并提出了通过在自制作实验系统中进行实验获得的单晶钻石的处理特性。

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