首页> 外国专利> DEPOSITING LOW ROUGHNESS DIAMOND FILMS

DEPOSITING LOW ROUGHNESS DIAMOND FILMS

机译:沉积低粗糙度金刚石薄膜

摘要

Methods of depositing a diamond layer are described, which may be used in the manufacture of integrated circuits. Methods include processing a substrate in which nanocrystalline diamond deposited on a substrate, wherein the processing methods result in a nanocrystalline diamond hard mask having high hardness.
机译:描述了可用于制造集成电路的金刚石层的沉积方法。方法包括处理其中纳米晶金刚石沉积在衬底上的衬底,其中所述处理方法产生具有高硬度的纳米晶金刚石硬掩模。

著录项

相似文献

  • 专利
  • 外文文献
  • 中文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号