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Aluminum physical vapor deposition for the cosmetic finishing of recycled aluminum alloys

机译:铝物理气相沉积技术在再生铝合金表面处理中的应用

摘要

A method of forming a surface coating on a component of an electronic device can include depositing an aluminum layer including at least about 0.05 weight percent (wt %) of a grain refiner on a surface of the component by a physical vapor deposition process, and anodizing the aluminum layer to form an anodized aluminum oxide layer having a L* value greater than about 85 in the CIELAB color space.
机译:一种在电子设备的部件上形成表面涂层的方法可以包括通过物理气相沉积工艺在部件的表面上沉积包括至少约0.05重量百分比(wt%)的晶粒细化剂的铝层,并且对铝层进行阳极化以形成在CIELAB颜色空间中L*值大于约85的阳极化氧化铝层。

著录项

  • 公开/公告号US11268188B2

    专利类型

  • 公开/公告日2022-03-08

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 APPLE INC.;

    申请/专利号US201916519288

  • 申请日2019-07-23

  • 分类号B32B15/20;C23C14/58;B32B15/04;C23C14/20;C23C14/18;C23C14/06;C23C14/14;C23C28;C23C14;B32B18;C23C14/08;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-24 23:46:48

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