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Methods and structures for altering charge carrier density or bandgap of a topological Dirac semimetal layer

机译:用于改变拓扑云半型层的电荷载体密度或带隙的方法和结构

摘要

Dirac semimetals, methods for modulating charge carrying density and/or band gap in a Dirac semimetal, devices including a Dirac semimetal layer, and methods for forming a Dirac semimetal layer on a substrate are described.
机译:描述了用于调节携带密度和/或带/或带/或带/或带状隙中的方法,包括DIRAC半型层的装置的方法以及用于在基板上形成狄拉克半型层的方法。

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