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ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION TARGET, METHOD FOR MANUFACTURING ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION TARGET, AND ELECTRON-BEAM-EXCITED ULTRAVIOLET LIGHT SOURCE

机译:紫外线发电靶,制造紫外光靶的方法,以及电子束激发紫外光源

摘要

An ultraviolet light generation target includes a light emitting layer. The light emitting layer contains a YPO4 crystal to which at least scandium (Sc) is added, and receives an electron beam to generate ultraviolet light. Further, a method of manufacturing the ultraviolet light generation target includes a first step of preparing a mixture containing yttrium (Y) oxide, Sc oxide, phosphoric acid, and a liquid, a second step of evaporating the liquid, and a third step of firing the mixture.
机译:紫外线光产生靶包括发光层。 发光层含有至少加入钪(SC)的YPO 4晶体,并接收电子束以产生紫外线。 此外,制造紫外光发生靶标的方法包括制备含有钇(Y)氧化物,舒氧化物,磷酸和液体的混合物的第一步骤,第二步骤蒸发液体,以及烧制的第三步 混合物。

著录项

  • 公开/公告号US2022013351A1

    专利类型

  • 公开/公告日2022-01-13

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 HAMAMATSU PHOTONICS K.K.;

    申请/专利号US201917296294

  • 发明设计人 NORIO ICHIKAWA;KOHEI IKEDA;

    申请日2019-12-13

  • 分类号H01J63/06;H01J63/04;G01J1/42;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-24 23:20:24

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