首页> 外国专利> A composition for forming a barrier material and a method for producing the same, a barrier material and a method for producing the same, and a product and a method for producing the same.

A composition for forming a barrier material and a method for producing the same, a barrier material and a method for producing the same, and a product and a method for producing the same.

机译:一种用于形成阻挡材料的组合物和制造方法,屏障材料和制造方法的制备方法,以及制备该方法及其制备方法。

摘要

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a barrier material, a composition for forming a barrier material, a method for producing a composition for forming a barrier material, and a barrier material, which are applicable to objects having various shapes and have excellent moisture resistance and long-term reliability under high temperature and high humidity. Provided are a manufacturing method of the above, a product provided with a barrier material, and a manufacturing method of the product. A mixture of a hydrolyzed polycondensate of a silane compound containing a silane oligomer and a silane monomer and a zirconium chelate complex, wherein the zirconium chelate complex is coordinated with four β-diketonato ligands to Zr 4+. A composition for forming a barrier material having a above-mentioned structure. [Selection diagram] None
机译:要解决的问题:提供一种屏障材料,一种用于形成阻挡材料的组合物,一种用于形成屏障材料的组合物的方法,以及一种屏障材料,其适用于具有各种形状的物体并具有优异的防潮性和具有优异的防潮性和具有优异防潮性的物体。 高温和高湿度下的长期可靠性。 提供了一种上述制造方法,一种具有屏障材料的产品,以及产品的制造方法。 含有硅烷低聚物和硅烷单体和锆螯合物配合物的硅烷化合物的水解缩聚物的混合物,其中锆螯合络合物与四个β-二酮配体与Zr 4 +配合。 一种用于形成具有上述结构的阻挡材料的组合物。 [选择图]无

著录项

  • 公开/公告号JP2021195381A

    专利类型

  • 公开/公告日2021-12-27

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 昭和電工マテリアルズ株式会社;

    申请/专利号JP20200100092

  • 申请日2020-06-09

  • 分类号C08L83/04;H05B33/10;H01L51/50;H05B33/02;C08K5/07;C08K5/09;C08K3/32;C08K3/16;C08K3/28;C08K5/5415;C08G77/04;B32B27;B05D7/24;B05D5;

  • 国家 JP

  • 入库时间 2022-08-24 23:03:17

相似文献

  • 专利
  • 外文文献
  • 中文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号