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PLASMA SOURCE AND METHOD FOR PREPARING AND COATING SURFACES USING ATMOSPHERIC PLASMA PRESSURE WAVES

机译:等离子体源和使用大气等离子体压力波制备和涂覆表面的方法

摘要

A method for cleaning a surface of a substrate with an atmospheric pressure plasma process in which a plasma is generated at atmospheric pressure. The plasma has an energetic species reactive with one or more components of an undesirable material on the substrate. In this method, the plasma flows from a nozzle exit as a plasma plume exiting into an ambient environment, and the surface of the substrate is exposed to the energetic species in the plasma plume, thereby producing an activated surface capable of adhering on contact a coating material to the activated surface.
机译:一种用大气压等离子体工艺清洁基板表面的方法,其中在大气压下产生等离子体。 等离子体具有活性物种与基材上的一个或多个不希望的材料的组分反应。 在该方法中,从喷嘴出口的等离子体流量作为散流进入周围环境的等离子体羽流,并且基板的表面暴露于等离子体羽流中的能量物种,从而产生能够粘附在涂层接触的活性表面上 材料到活性表面。

著录项

  • 公开/公告号EP3884078A1

    专利类型

  • 公开/公告日2021-09-29

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 ATMOSPHERIC PLASMA SOLUTIONS INC.;

    申请/专利号EP20190874935

  • 发明设计人 YANCEY PETER JOSEPH;

    申请日2019-10-24

  • 分类号C23C4/134;B08B7/02;C23C4/02;C23C24/04;

  • 国家 EP

  • 入库时间 2024-06-14 22:08:33

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