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Electroless nickel phosphorus cobalt plating bath and electroless nickel phosphorus cobalt coating

机译:化学镍磷钴电镀浴和无电磷磷钴涂层

摘要

An electroless nickel-phosphorus-cobalt plating bath contains a water-soluble nickel salt, a hypophosphorous acid salt, a cobalt-containing compound and a heavy metal compound, and additionally contains at least one component selected from the group consisting of an acetylene compound, an iodide ion source or an iodic acid ion source, and a nitro-group-containing aromatic compound that contains at least one nitro group. The concentration of the acetylene compound is 10 to 120 mg/L, the concentration of the iodide ion source or the iodic acid ion source is 10 to 4000 mg/L, and the concentration of the nitro-group-containing aromatic compound is 0.1 to 5000 mg/L.
机译:化学镍 - 磷钴镀浴含有水溶性镍盐,次磷酸盐,含钴化合物和重金属化合物,并且另外含有选自乙炔化合物的至少一种组分, 碘化物离子源或碘酸离子源,以及含有至少一个硝基的含硝基族芳族化合物。 乙炔化合物的浓度为10至120mg / L,碘离子源或碘酸离子源的浓度为10至4000mg / L,含硝基族芳族化合物的浓度为0.1 5000毫克/升。

著录项

  • 公开/公告号JP6934396B2

    专利类型

  • 公开/公告日2021-09-15

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 上村工業株式会社;

    申请/专利号JP20170214040

  • 发明设计人 佐藤 雅亮;黒坂 成吾;

    申请日2017-11-06

  • 分类号C23C18/50;H05K3/18;

  • 国家 JP

  • 入库时间 2022-08-24 21:03:00

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