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METHOD AND SYSTEM FOR DIFFUSING MAGNESIUM IN GALLIUM NITRIDE MATERIALS USING SPUTTERED MAGNESIUM SOURCES

机译:使用溅射镁源在氮化镓材料中漫射镁的方法和系统

摘要

A method of forming a doped gallium nitride (GaN) layer includes providing a substrate structure, including a gallium nitride layer, forming a dopant source layer over the gallium nitride layer, and depositing a capping structure over the dopant source layer. The method also includes annealing the substrate structure to diffuse dopants into the gallium nitride layer, removing the capping structure and the dopant source layer, and activating the diffused dopants.
机译:形成掺杂氮化镓(GaN)层的方法包括提供包括氮化镓层的基板结构,在氮化镓层上形成掺杂剂源极层,并在掺杂剂源层上沉积覆盖结构。 该方法还包括退火以将涂料延伸到氮化镓层中的基板结构,除去覆盖结构和掺杂剂源层,并激活扩散掺杂剂。

著录项

  • 公开/公告号US2021249269A1

    专利类型

  • 公开/公告日2021-08-12

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 QROMIS INC.;

    申请/专利号US202117172417

  • 申请日2021-02-10

  • 分类号H01L21/225;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-24 20:33:48

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