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Elmore Delay Time (EDT) Based Resistance Model

机译:Elmore延迟时间(EDT)基于电阻模型

摘要

An integrated circuit design tool for modeling the resistance of terminals of transistors such as gates, sources, drains and vias is disclosed. The structure of the terminal is specified in the data structure of the memory using a three-dimensional (3D) coordinate system. For each of the plurality of volume elements in the designated structure, an Elmore delay time (EDT) is determined. For this volume element among the plurality of volume elements located on the surface of the gate terminal facing the channel region, an average EDT (aEDT) is determined based on the EDT. The terminal's point-to-point resistance values are generated as a function of aEDT and the terminal's capacitance.
机译:公开了一种用于对诸如栅极,源,漏极和通孔的晶体管终端的电阻进行建模的集成电路设计工具。 使用三维(3D)坐标系,在存储器的数据结构中指定终端的结构。 对于指定结构中的多个体积元件中的每一个,确定ELMORE延迟时间(EDT)。 对于位于面对沟道区域的栅极端子的表面上的多个体积元件中的该卷元素,基于EDT确定平均EDT(AEDT)。 终端的点对点电阻值被产生为AEDT和终端电容的函数。

著录项

  • 公开/公告号KR102282806B1

    专利类型

  • 公开/公告日2021-07-27

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 시놉시스 인크.;

    申请/专利号KR20217009965

  • 发明设计人 아이버슨 랄프 벤하트;

    申请日2019-09-12

  • 分类号G06F30/367;G06F119/12;G06F30/31;G06F30/398;

  • 国家 KR

  • 入库时间 2022-08-24 20:25:28

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