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Hybrid overlay target design for imaging-based overlay and scatterometry-based overlay

机译:混合覆盖目标设计,用于基于成像的覆盖层和基于散射仪的覆盖层

摘要

Designs for a hybrid overlay target design that includes a target area with both an imaging-based target and a scatterometry-based target are disclosed. The imaging-based overlay target design can include side-by-side grating structure. A scatterometry-based overlay target design at a different location in the target area can include grating-over-grating structure. A method of measuring the hybrid overlay target design and a system with both an imaging optical system and a scatterometry system for measuring the hybrid overlay target design are also disclosed.
机译:公开了包括具有基于成像的目标和基于散射的目标的目标区域的混合覆盖目标设计的设计。基于成像的覆盖目标设计可包括并排光栅结构。在目标区域中的不同位置的基于散射仪的覆盖目标设计可以包括光栅过光结构。还公开了一种测量混合覆盖目标设计的方法和具有用于测量混合覆盖目标设计的成像光学系统和散射测量系统的系统。

著录项

  • 公开/公告号US11079335B2

    专利类型

  • 公开/公告日2021-08-03

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 KLA-TENCOR CORPORATION;

    申请/专利号US201815995731

  • 发明设计人 DAVID GREADY;

    申请日2018-06-01

  • 分类号G01N21/95;G01N21/956;G01B11/27;G01N21/47;G03F7/20;H01L21/66;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-24 20:18:25

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