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DONOR SUBSTRATE FOR DEPOSITING DEPOSITION MATERIAL ON ACCEPTOR SUBSTRATE, METHOD OF DEPOSITING DEPOSITION MATERIAL, AND METHOD OF FABRICATING DONOR SUBSTRATE

机译:用于沉积在受体底物上的沉积材料的供体基材,沉积沉积材料的方法,以及制造供体基材的方法

摘要

The present application discloses a donor substrate for depositing a deposition material on an acceptor substrate. The donor substrate includes a base substrate; a patterned thermal barrier layer on the base substrate; and a plurality of openings each of which extending through the patterned thermal barrier layer.
机译:本申请公开了一种用于将沉积材料沉积在受体衬底上的供体基材。供体基材包括基础基材;基材上的图案化的热阻挡层;并且多个开口,每个开口延伸通过图案化的热阻挡层。

著录项

  • 公开/公告号US2021223682A1

    专利类型

  • 公开/公告日2021-07-22

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 BOE TECHNOLOGY GROUP CO. LTD.;

    申请/专利号US201716302799

  • 发明设计人 LUJIANG HUANGFU;

    申请日2017-12-14

  • 分类号G03F1/38;C23C14/24;H01L51;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-24 20:03:43

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