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RRAM CROSSBAR ARRAY CIRCUITS WITH SPECIALIZED INTERFACE LAYERS FOR LOW CURRENT OPERATION

机译:RRAM横杆阵列电路,具有专用接口层,用于低电流操作

摘要

Technologies relating to RRAM crossbar array circuits with specialized interface layers for the low current operations are disclosed. An example apparatus includes: a substrate; a bottom electrode formed on the substrate; a first layer formed on the bottom electrode; an RRAM oxide layer formed on the first layer and the bottom electrode; and a top electrode formed on the RRAM oxide layer. The first layer may be a continuous layer or a discontinuous layer. The apparatus may further comprise a second layer formed between the RRAM oxide layer and the top electrode. The second layer may be a continuous layer or a discontinuous layer.
机译:公开了与RRAM横杆阵列电路有关的技术,具有用于低电流操作的专用接口层。示例装置包括:基板;在基板上形成的底部电极;在底部电极上形成的第一层;在第一层和底部电极上形成的RRAM氧化物层;和在RRAM氧化物层上形成的顶部电极。第一层可以是连续层或不连续层。该装置还可包括形成在RRAM氧化物层和顶部电极之间的第二层。第二层可以是连续层或不连续层。

著录项

  • 公开/公告号US2021066589A1

    专利类型

  • 公开/公告日2021-03-04

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 TETRAMEM INC.;

    申请/专利号US201916553173

  • 发明设计人 MINXIAN ZHANG;NING GE;

    申请日2019-08-28

  • 分类号H01L45;H01L27/24;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-24 17:29:37

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