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Method for forming curable composition, cured product, and insulating film

机译:形成可固化组合物,固化产物和绝缘膜的方法

摘要

PROBLEM TO BE SOLVED: To form a curable composition having a low dielectric constant and dielectric loss tangent, excellent heat resistance, elongation and tensile strength, and excellent film forming property, and curing of the curable composition. To provide a product and a method for forming an insulating film using the curable composition. A curable composition is blended with a maleimide-modified compound (A), a radical generator (C), and a thiol compound (D). The curable composition preferably contains a photoradical generator (C1) as the radical generator (C). Further, the curable composition preferably contains a protonic acid (E). [Selection diagram] None
机译:要解决的问题:形成具有低介电常数和介电损耗切线,优异的耐热性,伸长和拉伸强度的可固化组合物,以及优异的成膜性能,以及可固化组合物的固化。提供一种使用可固化组合物形成绝缘膜的产品和方法。将可固化组合物与马来酰亚胺改性化合物(A),自由基发生器(C)和硫醇化合物(D)共混。可固化组合物优选地含有光学发生器(C1)作为自由基发生器(C)。此外,可固化组合物优选含有质子酸(E)。 [选择图]无

著录项

  • 公开/公告号JP2021031541A

    专利类型

  • 公开/公告日2021-03-01

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 東京応化工業株式会社;

    申请/专利号JP20190150663

  • 发明设计人 海老澤 和明;

    申请日2019-08-20

  • 分类号C08F22/40;C08G65/48;C08G75/045;H01L21/312;

  • 国家 JP

  • 入库时间 2022-08-24 17:25:15

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