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offset method for measuring the real and imaginaeren part of scheinwiderstandes using two kompensationskreise

机译:两种测距法测量全展架实部和虚部的偏移方法

摘要

机译:

著录项

  • 公开/公告号DE000000392298A

    专利类型

  • 公开/公告日1924-03-21

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 SIEMENS & HALSKE AKT GES;

    申请/专利号DES0062014D

  • 发明设计人 CONRAD DR FRIEDRICH;

    申请日1923-02-01

  • 分类号

  • 国家 DE

  • 入库时间 2022-08-24 11:34:02

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