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机译:在光学成像的情况下影响清晰度的方法和装置
公开/公告号DE741508C
专利类型
公开/公告日1943-11-12
原文格式PDF
申请/专利权人 TOBIS TONBILD-SYNDIKAT AG.;
申请/专利号DE1941T056477D
发明设计人 HATSCHEK DR. PAUL;
申请日1941-11-16
分类号G02B27/10;
国家 DE
入库时间 2022-08-24 03:30:50
机译: 具有多个深度的光敏装置,系统,扩展深度的方法以及用于成像图像的光学系统
机译: 固态图像设备,半导体晶片,用于光学设备的模块,制造固态图像设备的方法以及用于制造光学设备模块以防止外部环境(如水分,粉尘等)的方法。从有效像素区域的影响表面减少固态图像设备的尺寸
机译: 光学系统中的聚焦偏差估计方法,涉及通过处理预定程度来修改图像的清晰度,以使两个图像被均等地锐化