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机译:产生蒸气痕迹的方法和设备
公开/公告号US2591157A
专利类型
公开/公告日1952-04-01
原文格式PDF
申请/专利权人 HUTCHINSON HAROLD D;
申请/专利号US19500167077
发明设计人 HUTCHINSON HAROLD D.;
申请日1950-06-09
分类号G09F21/16;
国家 US
入库时间 2022-08-24 00:57:06
机译: 用于气相沉积设备的掩模,气相沉积设备,气相沉积方法以及用于制造有机电致发光元件的方法
机译: 蒸气沉积装置的掩模,蒸气沉积装置,蒸气沉积方法和生产有机电致发光元素的方法
机译: 制造气相沉积掩模,气相沉积掩模制造装置,激光掩模和用于生产有机半导体元件的方法