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机译:在进行行进式溶剂处理之前,先对溶剂材料进行真空清洁和气相沉积
公开/公告号NL6406340A
专利类型
公开/公告日1964-12-14
原文格式PDF
申请/专利权人
申请/专利号NL19640006340
发明设计人
申请日1964-06-04
分类号C30B13/02;C30B19/02;H01L33/34;H01S5/30;H01S5/32;
国家 NL
入库时间 2022-08-23 16:06:48
机译: 在进行行进式溶剂处理之前,先对溶剂材料进行真空清洁和气相沉积
机译: 连续熔化和蒸发固体材料的系统和方法,气相沉积涂层系统,连续送入电极,电弧放电设备。通过气相沉积涂层产生电弧放电以电离气相涂层的方法。通过汽相沉积测量涂层系统中蒸发器的电离度和蒸发速率,并去除附着在真空镀膜上的真空室中沉积的材料。