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机译:去除表面遥异halchiterschicht上的外延的方法
公开/公告号AT238260B
专利类型
公开/公告日1965-02-10
原文格式PDF
申请/专利权人 SIEMENS & HALSKE AKTIENGESELLSCHAFT;
申请/专利号AT19630000768
发明设计人
申请日1963-01-31
分类号
国家 AT
入库时间 2022-08-23 16:06:14
机译: 种方法,用于去除炉sto远方halbleiterschicht上的外延层
机译: 去除表面沉积物的远程腔室方法