首页> 外国专利> method and arrangement for automatic photoelectric schichtdickenmessung in the manufacture duenner layers on transparent materials nanoseconds in vacuum

method and arrangement for automatic photoelectric schichtdickenmessung in the manufacture duenner layers on transparent materials nanoseconds in vacuum

机译:真空中在纳秒级透明材料上制造二层结构中的自动光电schichtdickenmessung的方法和装置

摘要

机译:

著录项

  • 公开/公告号DE000001214970A

    专利类型

  • 公开/公告日1966-04-21

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 IBM;

    申请/专利号DEJ0019702A

  • 发明设计人 SMITH CLARENCE LEE;FURY ARTHUR MCKINLEY;

    申请日1961-04-05

  • 分类号

  • 国家 DE

  • 入库时间 2022-08-23 15:03:12

相似文献

  • 专利
  • 外文文献
  • 中文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号