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机译:用于在纳秒内,特别是在高真空下生产各种材料层的设备
公开/公告号DE000001298834A
专利类型
公开/公告日1969-07-03
原文格式PDF
申请/专利权人 HYDRAWERK AG;
申请/专利号DEH0060223A
发明设计人 FRIEDRICH SCHROEDER;WERNER SEIFF;
申请日1966-08-12
分类号
国家 DE
入库时间 2022-08-23 12:24:29
机译: 用于在真空下,特别是在纳秒级的层中连续生产和处理电子元件电子设备的设备
机译: 通过气相沉积,特别是在高真空下生产各种类型的材料层的设备
机译: 一种通过在真空中蒸发形成薄层的材料在表面上生产薄层的方法和装置