首页> 外国专利> benzothiazine, benzoxazine, their salts, processes for their manufacture and their use in the manufacture of arzneipraeparaten

benzothiazine, benzoxazine, their salts, processes for their manufacture and their use in the manufacture of arzneipraeparaten

机译:苯并噻嗪,苯并恶嗪,其盐,其制备方法及其在制备阿兹尼普巴拉汀中的用途

摘要

(A) Cpds. of general formulae (I) and (II): where Y = S, SO, or SO2 (all claimed) or O (not claimed), pref. S. R = aryl, claims X-substd. Ph, furyl, thienyl, pyridyl, or naphthyl, or pref. Ph R1 = H, alkyl (opt. substd. by halogen), aralkyl (claims only Ph CH2 and X -substd.), allyl, propargyl, cinnamyl, or cycloalkylalkylene (claims only cyclopropyl) X = H, lower alkyl, lower alkoxy, NH2 (and dialkyl substd.), halogen, lower alkylthio, OH CN, NO2, or CF3, pref.H. R2, R3 = H, or together as oxa n = 1-4, claims only 1-2 A = lower alkylene (pref. propylene or esp. ethylene) Hal = halogen.
机译:(A)Cpds。通式(I)和(II)的通式:其中Y = S,SO或SO 2(全部要求保护)或O(未要求保护),优选。 X-取代,S = R =芳基。 Ph,呋喃基,噻吩基,吡啶基或萘基或优选。 Ph R1 = H,烷基(优选被卤素取代),芳烷基(仅要求保护Ph CH2和X-),烯丙基,炔丙基,肉桂基或环烷基亚烷基(仅要求保护环丙基)X = H,低级烷基,低级烷氧基,NH2(和二烷基取代),卤素,低级烷硫基,OH CN,NO2或CF3(优选H)。 R 2,R 3 = H或一起作为氧杂n = 1-4,仅要求1-2个。A =低级亚烷基(优选丙烯或特别是乙烯)Hal =卤素。

著录项

  • 公开/公告号DE000001926071A

    专利类型

  • 公开/公告日1970-11-26

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 SQUIBB & SONS INC;

    申请/专利号DE1926071A

  • 发明设计人 KRAPCHO JOHN;

    申请日1969-05-22

  • 分类号

  • 国家 DE

  • 入库时间 2022-08-23 09:55:33

相似文献

  • 专利
  • 外文文献
  • 中文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号