首页> 外国专利> PHOTOFABRICATION SYSTEM USING DEVELOPED NEGATIVE AND POSITIVE IMAGES IN COMBINATION WITH NEGATIVE-WORKING AND POSITIVE-WORKING PHOTORESIST COMPOSITIONS TO PRODUCE RESISTS ON OPPOSITE SIDES OF A WORKPIECE

PHOTOFABRICATION SYSTEM USING DEVELOPED NEGATIVE AND POSITIVE IMAGES IN COMBINATION WITH NEGATIVE-WORKING AND POSITIVE-WORKING PHOTORESIST COMPOSITIONS TO PRODUCE RESISTS ON OPPOSITE SIDES OF A WORKPIECE

机译:将已开发的负片和正片图像与负片和正片光致抗蚀剂组合使用的光成膜系统可在工件的相对位置上产生抗性

摘要

机译:

著录项

  • 公开/公告号FR2064909A5

    专利类型

  • 公开/公告日1971-07-23

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 EASTMAN KODAK CY;

    申请/专利号FR19700035635

  • 发明设计人

    申请日1970-10-02

  • 分类号G03C5/00;H05K3/00;

  • 国家 FR

  • 入库时间 2022-08-23 09:19:07

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