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机译:在纺织工业之外将新的唑衍生物用作光学奥菲尔密特有机材料
公开/公告号CH519006A
专利类型
公开/公告日1972-02-15
原文格式PDF
申请/专利权人 CIBA-GEIGY AG;
申请/专利号CH19690003406
发明设计人 LIECHTIPETERDR.;
申请日1969-03-06
分类号C08K1/75;
国家 CH
入库时间 2022-08-23 08:40:30
机译: 在纺织工业之外将新的唑衍生物用作光学奥菲尔密特有机材料
机译: 在纺织工业之外使用新的1,2-二苯乙烯基,1、3、4-恶二唑衍生物作为光学aufhellmittel有机材料