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EDM PROCESS A METHOD AND APPARATUS FOR CONTROLLING THE FLOW RATE OF DIELECTRIC AS A FUNCTION OF GAP IMPEDANCE

机译:EDM过程控制作为间隙阻抗函数的电介质流速的方法和装置

摘要

A method and apparatus for use in an EDM process for controlling the flow rate of dielectric through a machining gap as a function of the magnitude of gap impedance. An apparatus is provided for detecting variations in the magnitude of gap impedance and producing an output signal representative thereof. The variations in gap impedance are used to change the flow rate of dielectric through the gap. The flow rate may increase thus cleansing the gap of debris, or it may decrease and create a limited concentration of debris to facilitate the breakdown of the gap.
机译:一种在EDM工艺中使用的方法和装置,用于控制通过加工间隙的电介质的流速作为间隙阻抗大小的函数。提供了一种用于检测间隙阻抗的大小的变化并产生代表其的输出信号的设备。间隙阻抗的变化用于改变通过间隙的电介质的流速。流速可以增加从而清洁碎屑间隙,或者它可以减小并产生有限的碎屑浓度以促进间隙的破裂。

著录项

  • 公开/公告号FR2111391A5

    专利类型

  • 公开/公告日1972-06-02

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 CINCINNATI MILACRON INC;

    申请/专利号FR19710036989

  • 发明设计人

    申请日1971-10-14

  • 分类号B23P1/00;

  • 国家 FR

  • 入库时间 2022-08-23 08:11:23

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