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机译:制备焊料层的方法及其在金属连接和半导体上的应用
公开/公告号DE1589502B2
专利类型
公开/公告日1973-06-20
原文格式PDF
申请/专利权人
申请/专利号DE19671589502
发明设计人
申请日1967-02-24
分类号B23K1/08;
国家 DE
入库时间 2022-08-23 07:12:40
机译: 制备焊料层的方法及其在金属连接和半导体上的应用
机译: 施加可焊接的导电层的方法以及在该导电层和金属导体带之间产生焊接连接的方法