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Doping cadmium telluride crystals - with gallium/indium/aluminium by soln zone melting

机译:掺杂碲化镉晶体-锡区熔化法注入镓/铟/铝

摘要

Pure crystalline CdTe compsn. is doped by contact with a discrete Te layer contg. a dopant and melting to form a soln. zone, heating being directed so that the soln. zone passes through the compsn. and CdTe dissolves continuously on one side and recrystallises on the opposite side of the zone. The prod. is esp. useful for high-temp. semiconductors or solar cells. Good regulation of the amt. of dopant and prodn. of more highly doped zones are possible. The soln. zone is kept at 500-800 degrees C and is 0.5-2 cm wide.
机译:纯结晶CdTe化合物。通过与不连续的Te层contg接触来掺杂。掺杂剂熔化并形成溶胶。区域,加热被引导以便使锡。区域通过compsn。 CdTe在该区域的一侧连续溶解并在该区域的另一侧重结晶。产品。特别是。对高温有用。半导体或太阳能电池。良好的amt调节。掺杂剂和产品更高掺杂区的数量是可能的。索恩区域保持在500-800摄氏度,宽度为0.5-2厘米。

著录项

  • 公开/公告号JPS4890678A

    专利类型

  • 公开/公告日1973-11-26

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人

    申请/专利号JP19730018831

  • 发明设计人

    申请日1973-02-15

  • 分类号C30B13/02;C30B29/48;H01L21/208;H01L21/388;

  • 国家 JP

  • 入库时间 2022-08-23 06:18:22

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