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Acid gold cyanide plating solution - for the production of gold and gold alloy coatings

机译:酸性氰化金电镀液-用于生产金和金合金涂层

摘要

The acid gold cyanide plating soln. for the prodn. of Au and Au alloy coatings contains at least one of Sb, Ga, ge, Bi and Sn in the form of a soluble cpd. and in an amt. of 0.01-1,000 mg/l, w.r.t. the total metal content. Pref. the soln. contains a soluble Sn cpd. in an amt. of 1 to 2 mg/l. The Sn compd. is pref. Sn (II) sulphate. The Au plating soln. is replenished during working by addns. of Au cyanide, and of the alloying elements or cpds. of these, and a stabiliser. The stabiliser is an aq. soln. contg. =1 Sb, Ga, Ge, Bi and Sn in the form of a soluble cpd. such as an oxide, salt, citrate or tartrate, a complexing organic acid, and a reducing agent such as hypophosphite. Allows working with higher c.d. with a lower expenditure regarding regeneration of the bath, and produces a Au or Au alloy electrodeposit of higher quality.
机译:酸性氰化金电镀液。为产品的Au和Au合金涂层包含可溶性cpd形式的Sb,Ga,ge,Bi和Sn中的至少一种。和在一个。 0.01-1,000毫克/升,w.r.t.总金属含量。首选soln。包含可溶性Sn cpd。在一个。 1至2 mg / l。 Sn comp。是首选。硫酸锡(II)。金电镀液。由addns在工作期间补充。氰化金,以及合金元素或cpds。其中,还有稳定剂。稳定剂是水溶液。 soln。续> = 1可溶性cpd形式的Sb,Ga,Ge,Bi和Sn。如氧化物,盐,柠檬酸盐或酒石酸盐,络合有机酸和还原剂如次磷酸盐。允许使用更高的c.d.用较低的镀液再生费用,生产出更高质量的Au或Au合金电沉积。

著录项

  • 公开/公告号DE2523510B1

    专利类型

  • 公开/公告日1976-10-14

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 SIEMENS AG;

    申请/专利号DE19752523510

  • 发明设计人 ANFT GERD;

    申请日1975-05-27

  • 分类号C25D3/48;C25D3/62;

  • 国家 DE

  • 入库时间 2022-08-23 02:00:54

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