首页> 外国专利> Absorption layer for use during x-ray fluorescence analysis which prevents hard x-rays

Absorption layer for use during x-ray fluorescence analysis which prevents hard x-rays

机译:用于X射线荧光分析的吸收层,可防止硬X射线

摘要

An absorption layer for use during x-ray fluorescence analyses which prevents hard x-ray radiation comprising coating a specimen holder with a first layer of high-purity aluminum and a second layer of high-purity anodic oxidized aluminum.
机译:用于X射线荧光分析的吸收层,用于防止硬X射线辐射,该吸收层包括在样品支架上涂覆第一层高纯度铝和第二层高纯度阳极氧化铝。

著录项

  • 公开/公告号US3925678A

    专利类型

  • 公开/公告日1975-12-09

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT;

    申请/专利号US19740488076

  • 发明设计人 PFISTERER;HERMAN;EBERSPAECHER;OTTO;

    申请日1974-07-12

  • 分类号H01J35/16;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-23 01:38:05

相似文献

  • 专利
  • 外文文献
  • 中文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号