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PHOTOSENSITIVE MATERIAL FOR PATTERN FORMATION FOR ACCELERATED PARTICLE BEAMEXPOSURE AND PATTERN FORMATION

机译：加速颗粒束曝光和图案形成的光敏材料

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摘要

PURPOSE:To obtain high resolution degree and also prevent pinholes by laminating specific amorphous calcogenide layer and a thin silver layer on substrate.

机译：目的：通过在基板上层压特定的非晶态方解石层和薄银层来获得高分辨率并防止针孔。

著录项

公开/公告号JPS5360638A

专利类型
公开/公告日1978-05-31

原文格式PDF
申请/专利权人 NIPPON TELEGRAPH & TELEPHONE;
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申请/专利号JP19760136070
发明设计人 OCHI OSAMU;MIZUSHIMA NOBUHIKO;NAGAI HARUO;YOSHIKAWA AKIRA;NAKANO KAZUKO;
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申请日1976-11-12
分类号B41M5/26;C03C3/00;C03C3/32;C03C4/04;G03C1/705;G03C1/72;G03G5/00;H01L21/027;
国家 JP
入库时间 2022-08-22 23:07:54

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