退出
我的积分:
中文文献批量获取
外文文献批量获取
机译:稳定合成聚合物免受光的偏见影响
公开/公告号PT68712A
专利类型
公开/公告日1978-11-01
原文格式PDF
申请/专利权人 HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT;
申请/专利号PT19780068712
发明设计人
申请日1978-10-27
分类号C08F20/56;
国家 PT
入库时间 2022-08-22 22:41:05
机译: 聚二烷基氮杂吡咯二烯酸衍生物,其制备方法,其应用,稳定化对光有害的合成聚合物以及稳定化的合成聚合物的方法
机译: 共聚体,其生产过程,其应用,稳定化合成聚合物的过程,以抵抗光的破坏性影响以及稳定化的合成聚合物
机译: 稳定链中具有酰胺基的线性高分子化合物的过程受到热和光的影响,以及微珠的影响。