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机译:一种用于制造相同更浓的半导体装置的方法
公开/公告号FR2119924B1
专利类型
公开/公告日1978-06-02
原文格式PDF
申请/专利权人 SEMIKRON GMBH GLEICHRICH;
申请/专利号FR19710039498
发明设计人
申请日1971-11-04
分类号H01L1/00;
国家 FR
入库时间 2022-08-22 21:51:32
机译: 同时生产大量半导体的方法等于具有一个或多个半导体体的更丰富的布置
机译: 一种用于制造相同更浓的半导体装置的方法