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Plasma-etching image in exposed AgX emulsion

机译:暴露的AgX乳剂中的等离子蚀刻图像

摘要

A method for forming an image comprising forming a silver, silver halide or binder image in the emulsion layer of a photographic material, which photographic material comprises a support having a silver halide emulsion layer thereon, by exposing and developing the photographic material, and plasma etching the emulsion layer to preferentially remove the emulsion layer at the non-image areas. Alternatively, the emulsion layer may be on a masking layer, whereafter, following exposing and developing, the photographic material is plasma etched to preferentially remove the emulsion layer at the non-image areas and to uncover the masking layer lying thereunder and then the masking layer is etched away at the uncovered areas.
机译:一种形成图像的方法,该方法包括在照相材料的乳剂层中形成银,卤化银或粘合剂图像,该照相材料包括通过曝光和显影该照相材料而在其上具有卤化银乳剂层的载体,以及等离子蚀刻。乳剂层以优先去除非图像区域的乳剂层。或者,乳剂层可以在掩模层上,此后,在曝光和显影之后,对照相材料进行等离子蚀刻,以优先去除非图像区域的乳剂层,并露出位于其下方的掩模层,然后露出掩模层。在未被覆盖的区域被蚀刻掉。

著录项

  • 公开/公告号US4207105A

    专利类型

  • 公开/公告日1980-06-10

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 FUJI PHOTO FILM CO LTD;

    申请/专利号US19770814943

  • 发明设计人 MASAMICHI SATO;

    申请日1977-07-12

  • 分类号G03C5/00;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-22 17:04:08

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