首页> 外国专利> Brief description of the formation of images in the material photoresist, applicable in particular in the industry of semi conducting -

Brief description of the formation of images in the material photoresist, applicable in particular in the industry of semi conducting -

机译:简要介绍材料光致抗蚀剂中图像的形成,尤其适用于半导体行业-

摘要

机译:

著录项

  • 公开/公告号FR2274072B1

    专利类型

  • 公开/公告日1982-02-05

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 IBM;

    申请/专利号FR19750014030

  • 发明设计人

    申请日1975-04-29

  • 分类号G03F1/00;H01L21/02;

  • 国家 FR

  • 入库时间 2022-08-22 12:33:39

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