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XeCl Avalanche discharge laser employing Ar as a diluent

机译:XeCl雪崩放电激光器,采用Ar作为稀释剂

摘要

A XeCl avalanche discharge exciplex laser which uses a gaseous lasing starting mixture of: (0.2%-0.4% chlorine donor/2.5%-10% Xe/97.3%- 89.6% Ar) . The chlorine donor normally comprises HCl but can also comprise CCl.sub. 4 BCl.sub.3. Use of Ar as a diluent gas reduces operating pressures over other rare gas halide lasers to near atmospheric pressure, increases output lasing power of the XeCl avalanche discharge laser by 30% to exceed KrF avalanche discharge lasing outputs, and is less expensive to operate.
机译:XeCl雪崩放电激基复合物激光器,其使用以下气体的激光起始混合物:(0.2%-0.4%氯供体/2.5%-10% Xe / 97.3%-89.6%Ar)。氯供体通常包含HCl,但也可以包含CCl。 4 BCl.sub.3。使用Ar作为稀释气体可将其他稀有气体卤化物激光器的工作压力降低到接近大气压,将XeCl雪崩放电激光器的输出激光功率提高30%,超过KrF雪崩放电激光器的输出,并且运行成本较低。

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