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机译:聚焦X射线,γ射线和中子的仪器和方法。
公开/公告号NL8201621A
专利类型
公开/公告日1982-11-16
原文格式PDF
申请/专利权人 UNITED STATES DEPARTMENT OF ENERGY TE WASHINGTON COLUMBIA VER. ST. V. AM.;
申请/专利号NL19820001621
发明设计人
申请日1982-04-19
分类号G21K1/06;G01N23/20;
国家 NL
入库时间 2022-08-22 11:06:03
机译: 聚焦X射线,γ射线和中子的仪器和过程。
机译: 利用原子层沉积制造X射线/伽马射线聚焦光学系统的方法
机译: 利用能够制造具有高纵横比的具有外层的结构的原子层沉积的X射线/伽马射线(γ射线)聚焦光学系统的制造方法