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Method of making a Schottky diode with improved voltage properties

机译:制备具有改善的电压特性的肖特基二极管的方法

摘要

The voltage behaviour of a Schottky diode is improved by providing a Schottky diode of the type comprising an epitaxial layer locally covered with a metal layer and by depleting the space charge zone in the epitaxial layer at the periphery of the metal layer. This depletion is obtained by implanting ions counter balancing the initial doping of the epitaxial layer.
机译:肖特基二极管的电压特性通过提供一种肖特基二极管来改善,该类型的肖特基二极管包括局部覆盖有金属层的外延层并通过耗尽金属层外围的外延层中的空间电荷区。通过注入离子以平衡外延层的初始掺杂来获得这种耗尽。

著录项

  • 公开/公告号EP0021869B1

    专利类型

  • 公开/公告日1983-06-01

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 THOMSON-CSF;

    申请/专利号EP19800400625

  • 发明设计人 ROCHE MARCEL;LITOT JEAN-PAUL;

    申请日1980-05-08

  • 分类号H01L29/91;H01L29/06;

  • 国家 EP

  • 入库时间 2022-08-22 10:34:32

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