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机译:聚砜类薄膜和包括此类薄膜的湿敏电阻元件
公开/公告号GB2106919A
专利类型
公开/公告日1983-04-20
原文格式PDF
申请/专利权人 * SHARP KK;
申请/专利号GB19820019420
发明设计人 SHUJI * MIYOSHI;MASAYA * HIJIKIGAWA;TAKASHI * SUGIHARA;
申请日1982-07-05
分类号C08J5/22;C08L25/18;
国家 GB
入库时间 2022-08-22 09:56:03
机译: 聚砜类薄膜和包括此类薄膜的湿敏电阻元件
机译: 触敏表面具有一对包括碳阻性元素的膜,分别将导电轨迹连接到碳阻性带
机译: 用于形成膜的组合物,抗蚀剂组合物,辐射敏感组合物,无定形膜制造方法,抗蚀剂图案形成方法,用于光刻,电路图案形成方法和用于光刻薄膜的底层薄膜的制造方法,用于形成光学构件的组合物, 用于形成膜,抗蚀剂树脂,辐射敏感树脂的树脂和用于形成光刻底层薄膜的树脂