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机译:采用环境压力应力的结构的双曝光干涉分析
公开/公告号IL69352D0
专利类型
公开/公告日1984-06-29
原文格式PDF
申请/专利权人 IND HOLOGRAPHICS INC;
申请/专利号IL19830069352
发明设计人
申请日1983-07-27
分类号G01N;
国家 IL
入库时间 2022-08-22 09:17:21
机译: 结构的二次曝光干涉分析并采用环境压力应力
机译: 结构的双重曝光干涉分析和应计环境压力应力。
机译: 结构的双重曝光干涉分析和压印环境压力应力