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机译:提供脉冲调制高频发射机和辅助雷达发射机。
公开/公告号NL174204C
专利类型
公开/公告日1984-05-01
原文格式PDF
申请/专利权人 SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT TE BERLIJN EN MUENCHEN BONDSREPUBLIEK DUITSLAND.;
申请/专利号NL19770011770
发明设计人
申请日1977-10-26
分类号H03B5/18;G01S13/76;H03C1/44;
国家 NL
入库时间 2022-08-22 09:16:32
机译: 提供脉冲调制高频发射机和辅助雷达发射机。
机译: 本发明提供了一种用于二级排放金盏花的制造方法,以及该方法的应用和一种由kananalenplaat生产的二级排放的这种二级排放kalenenplaat elektronenbuis。
机译: 在主喷射点(32)处注入燃料(25),然后以特定间隔对剩余的氧化剂供应进行二次注入,以达到所需的热分布。可以设置用于离开坩埚的材料的氧化剂预热热交换器(51)和制冷剂热交换器(49)。