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Multilayer dry-film positive-acting laminable photoresist with two photoresist layers wherein one layer includes thermal adhesive

机译:具有两个光致抗蚀剂层的多层干膜正性可层压光致抗蚀剂,其中一层包括热粘合剂

摘要

Dry-film, positive-acting photoresist layers are used in the formation of many articles such as circuit boards, printing plates and the like. Laminable monolayers of photoresist suffer from slow speeds, brittleness, and narrow latitude during development and exposure. The use of a laminable positive-acting photoresist integral adhesive layer on the dry- film, positive-acting photoresist layer improves the properties and performance of the photoresist.
机译:干膜正性光致抗蚀剂层用于许多制品的形成中,例如电路板,印刷板等。光致抗蚀剂的可层压单层在显影和曝光过程中具有速度慢,脆性和纬度窄的缺点。在干膜正作用光致抗蚀剂层上使用可层压的正作用光致抗蚀剂整体粘合剂层改善了光致抗蚀剂的性质和性能。

著录项

  • 公开/公告号US4571374A

    专利类型

  • 公开/公告日1986-02-18

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 MINNESOTA MINING AND MANUFACTURING COMPANY;

    申请/专利号US19840686838

  • 发明设计人 JOHN P. VIKESLAND;

    申请日1984-12-27

  • 分类号G03C1/54;G03C1/60;G03C1/495;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-22 07:29:33

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