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机译：基于饱和和不饱和碳卤化合物的气体可用于等离子体攻击
公开/公告号IT1166707B
专利类型
公开/公告日1987-05-06
原文格式PDF
申请/专利权人 INTERNATIONAL BUSINESS MACHINES CORP.;
申请/专利号IT19790021038
发明设计人
申请日1979-03-16
分类号H01L;
国家 IT
入库时间 2022-08-22 07:18:31
机译： 基于饱和和不饱和碳卤化合物的气体可被等离子体侵蚀。
机译： 从含有饱和和不饱和烃的气体混合物中分离出饱和烃和氯化化合物的方法。
机译： 通过气相氧化非均相的不饱和或饱和烃制备不饱和醛或羧酸的方法，不饱和提纯的羧酸的制备方法;用于制备不饱和羧酸的仪器纯化的基于不饱和羧酸的聚合物的制备方法
