首页> 外国专利> Shutter apparatus for fine-tuning a coupled-dual resonator crystal

Shutter apparatus for fine-tuning a coupled-dual resonator crystal

机译:用于微调耦合双谐振器晶体的快门装置

摘要

A system for plating resonator electrodes or the like by the vapor deposition process employs one or more shutters between the deposition material source and a plating mask. At least one of the shutters has a pair of apertures aligned with different apertures in the plating mark. In one embodiment comprising a two shutter, four position system, the two shutters may be positioned such that either, both or neither of the resonators can be plated. Because each shutter is either ON or OFF, a simple binary analogy for control of the shutters results.
机译:一种用于通过气相沉积工艺来电镀谐振器电极等的系统,在沉积材料源与电镀掩模之间采用一个或多个闸板。至少一个活门具有一对与电镀标记中的不同孔对准的孔。在包括两个百叶窗,四位置系统的一个实施例中,可以定位两个百叶窗,使得可以镀覆谐振器中的一个或两个,或者两个都不镀覆。因为每个快门都是开或关,所以产生了一个简单的二进制模拟来控制快门。

著录项

  • 公开/公告号US4627379A

    专利类型

  • 公开/公告日1986-12-09

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 GENERAL ELECTRIC COMPANY;

    申请/专利号US19840676124

  • 发明设计人 SAMUEL TOLIVER;GERALD E. ROBERTS;

    申请日1984-11-29

  • 分类号C23C13/08;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-22 07:09:56

相似文献

  • 专利
  • 外文文献
  • 中文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号