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Electron impact ion source for trace analysis

机译:电子碰撞离子源,用于痕量分析

摘要

An apparatus is disclosed for analyzing trace elements in a gas sample. A unique feedback system is provided for accurately regulating and sensing the pressure supplied to the ion chamber of the device. The feedback system is capable of compensating for a wide range of input gas pressures. The apparatus also includes an improved closed ion source which is resistant to corrosion and aids in the reduction of noise. In addition, a method is disclosed to calibrate the detector for accurately scaling the measurements of trace elements.
机译:公开了一种用于分析气体样品中的痕量元素的设备。提供了一个独特的反馈系统,可以准确地调节和检测提供给设备离子室的压力。反馈系统能够补偿各种输入气压。该装置还包括改进的封闭离子源,该封闭离子源具有抗腐蚀能力并有助于降低噪音。另外,公开了一种校准检测器以精确缩放痕量元素的测量值的方法。

著录项

  • 公开/公告号US4689574A

    专利类型

  • 公开/公告日1987-08-25

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 UTI INSTRUMENT CO.;

    申请/专利号US19850798007

  • 发明设计人 KUO-CHIN LIN;FREDERICK P. PICKETT;

    申请日1985-11-14

  • 分类号G01N27/62;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-22 07:08:52

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