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Amorphous silicon photoreceptors - have specific surface roughness achieved by polishing with reactive soft abrasive

机译:非晶硅感光体-通过使用反应性软磨料进行抛光可获得特定的表面粗糙度

摘要

Amorphous Si (hydride) photoreceptor has at least one of the following: mean surface roughness (needle type tester) of 190 Angstrom or less; mean surface roughness (electron microscope) of 60 Angstrom or less; a mean variance of roughnesses (electron microscope) of 70 Angstrom or less; max. surface amplitude (electron microscope) of 450 Angstrom or less; and difference between the mean of five largest and the mean of five smallest roughnesses (electron microscope) of 420 Angstrom or less. The surface is formed by reactive polishing and/or abrading.
机译:非晶硅(氢化物)感光体具有以下至少之一:平均表面粗糙度(针型测试仪)为190埃或更小;平均表面粗糙度(电子显微镜)为60埃或更小; (电子显微镜)粗糙度的平均方差为70埃或更小;最高表面振幅(电子显微镜)为450埃或更小;五个最大粗糙度的平均值与五个最小粗糙度的平均值(电子显微镜)之间的差为420埃或更小。该表面通过反应性抛光和/或研磨形成。

著录项

  • 公开/公告号ES8801448A1

    专利类型

  • 公开/公告日1988-01-01

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 MITSUBISHI CHEMICAL INDUSTRIES LIMITED;

    申请/专利号ES19860554183

  • 发明设计人

    申请日1986-04-04

  • 分类号G03G21/00;

  • 国家 ES

  • 入库时间 2022-08-22 06:57:21

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